品牌:
SENTECH
型號:
SI 500D
功能:
沉積工藝、制備高質(zhì)量薄膜
用途范圍:
適用于器件的生產(chǎn)和研發(fā)應(yīng)用
產(chǎn)品規(guī)格:沉積工藝、特定溫度范圍內(nèi)制備高質(zhì)量薄膜
公司所在地:重慶
產(chǎn)品庫存:現(xiàn)貨及定制
可供貨地區(qū):全國
SI 500D在基于硅烷的沉積工藝中具有出色性能,可在80℃-350℃溫度下采用ICPECVD方式制備高質(zhì)量的SiO2、SiOxNY等膜。采用先進(jìn)的設(shè)備配置。
展開SI 500D在基于硅烷的沉積工藝中具有出色性能,可在80℃-350℃溫度下采用ICPECVD方式制備高質(zhì)量的SiO2、SiOxNY等膜。采用先進(jìn)的設(shè)備配置。收起