品牌:
SENTECH
型號:
SI 500、SI 500C等
功能:
刻蝕后形成光滑側(cè)壁,在光學(xué)應(yīng)用中非常重要
用途范圍:
可在-100℃左右低溫下實(shí)現(xiàn)深硅刻蝕
產(chǎn)品規(guī)格:低溫刻蝕、平板三螺旋天線PTSA、高選擇比
公司所在地:重慶
產(chǎn)品庫存:現(xiàn)貨及定制
可供貨地區(qū):全國
刻蝕機(jī)可在-100°C左右的低溫下實(shí)現(xiàn)深硅刻蝕。采用連續(xù)的SF6/O2刻蝕工藝,在側(cè)壁上生成低溫自鈍化層。該工藝刻蝕后形成光滑的側(cè)壁,在光學(xué)應(yīng)用上非常重要。同時(shí)刻蝕工藝的高刻蝕速率可實(shí)現(xiàn)刻樣傳片。
展開刻蝕機(jī)可在-100°C左右的低溫下實(shí)現(xiàn)深硅刻蝕。采用連續(xù)的SF6/O2刻蝕工藝,在側(cè)壁上生成低溫自鈍化層。該工藝刻蝕后形成光滑的側(cè)壁,在光學(xué)應(yīng)用上非常重要。同時(shí)刻蝕工藝的高刻蝕速率可實(shí)現(xiàn)刻樣傳片。收起